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高溫氣固催化TXAS裝置(HTC-TXAS)
    發布時間: 2022-09-23 09:27    

一、產品簡介

高溫氣固催化原位TXAS裝置(HTC-TXAS)是一款專門為研究高溫氣固相催化反應過程而設計的原位測試裝置。該裝置采用加熱爐方式對催化劑進行加熱,樣品加熱溫度更加均勻、準確。該原位裝置最高度可設置成1000℃。該裝置配備進出氣孔,能夠對裝置整體進行氣氛保護,同時受益于氣路設計,能夠保證氣體始終有效通過催化劑。因采用的透射模式進行數據采集,裝置兩側均設置了X射線窗口(此處窗口可多種選擇)。


二、結構組成

本設備由主體腔室、冷卻循環系統、氣路系統和溫度控制系統四個主體部分組成。

 

三、主要特點

1.該原位裝置適用于高溫氣固相催化反應體系,并能夠在反應過程中在線采集同步輻射X射線吸收譜數據(透射);

2.該裝置加熱溫度范圍:RT-1000℃,溫度控制精度:±1℃;

3.樣品尺寸大小:φ6-10mm,厚度可根據樣品吸收進行微調:<=2mm;

4.該裝置配備進出氣孔,能夠對體系進行氣氛保護,并保證氣體有效通過樣品;

5.該裝置采用透射模式采集XAFS數據,兩側X射線窗口可有多種選擇,如高純Be窗、Kapton膜等;

6.該裝置能夠很好的匹配各同步輻射光源的X射線吸收譜線站;

7.該裝置溫控系統、水冷系統,能夠保證裝置外殼溫度不高于60℃。

 

四、 工作原理


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