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圍繞科研 服務科研

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高溫衍射裝置(HT-XRD-500)
    發布時間: 2022-09-07 15:40    

一、產品簡介

原位高溫衍射反應裝置(HT-XRD-500)是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計 的原位樣品臺,該裝置主要包含有主體反應腔(高溫爐體)、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多 個部件及相關配件。采用環境場加熱方式,確保樣品處于恒溫點,最高使用溫度500℃。該原位 裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究,是材料科學領域、能源化學領 域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。


二、主要特點:


1. 高溫衍射反應腔主要包括主體反應腔、水冷系統、溫控系統、樣品臺裝置等多個部件及相關配件;

2. 該裝置采用環境場加熱方式對樣品中心處進行加熱,保證樣品處的溫度均勻;

3. 溫度控制范圍:RT-500℃;溫度控制精度:±1℃;

4. 樣品臺采用陶瓷加工而成,熱電偶采用k型熱電偶,置于樣品正下方;

5. 裝置采用kapton膜作為X射線光窗,能夠承受不高于2個大氣壓的氣壓條件和低真空環境;

6. X射線采集角度為:5<2θ<160°;

7. 配備水冷系統,保證主體反應腔室的溫度不高于60℃,保證實驗的安全;



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