北京中研環科

圍繞科研 服務科研

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高溫高壓 XRD 反應裝置(TSSHP-XRD-500)
    發布時間: 2022-09-07 17:16    

一、產品簡介
原位高溫高壓 XRD 反應裝置(TSSHP-XRD-500)是一款專門為高溫條件下 探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺,該裝置主要包含有主體反應腔(高 溫爐體)、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用臺式加熱 方式,PT100 熱電阻置于樣品正下方,最高使用溫度 500℃,最高使用壓力 2.5MPa。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研 究,是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。


二、主要特點:


  • 裝置系統主要包括主體反應腔、水冷系統、溫控系統、樣品臺裝置等多個部 件及相關配件;

  • 主體真空反應腔室內部按照低真空要求進行處理,加熱爐采用臺式加熱方式 對樣品進行加熱;

  • 常用溫度控制范圍:RT-500℃,溫度控制精度:±1℃;

  • 樣品槽尺寸為:φ7*0.5mm;

  • 配備水冷系統,保證主體反應腔室的溫度不高于 60℃,保證實驗的安全;

  • 樣品臺采用良好導熱金屬加工而成,測溫采用 Pt100 熱電阻,置于樣品正下 方; 

  • 裝置能夠承受 2.5MPa 壓力條件和低真空環境。

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