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高溫臺式加熱XRD裝置(TSS-XRD-1000)
    發布時間: 2022-09-07 17:43    

一、產品簡介
高溫臺式加熱XRD裝置(TSS-XRD-1000)是一款專門為高溫條件下探測樣品 物相結構變化而設計的原位樣品臺,該裝置主要包含有主體反應腔(高溫爐體)、 水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用臺式加熱方式,S 型 熱電偶置于樣品正下方,最高使用溫度 1000℃,常壓。該原位裝置十分適用于 研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究,是材料科學領域、能源化學領 域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。

主要特點:


  • 裝置系統主要包括主體反應腔、水冷系統、溫控系統、樣品臺裝置等多個部 件及相關配件; 

  • 主體真空反應腔室內部按照低真空要求進行處理,加熱爐采用臺式加熱方式 對樣品進行加熱; 

  • 常用溫度控制范圍:RT-1000℃,溫度控制精度:±1℃;

  • 窗口溫度很高,請勿用手觸摸;

  • 配備水冷系統,保證主體反應腔室的溫度不高于 60℃,保證實驗的安全; 

  • 樣品臺采用良好導熱陶瓷加工而成,測溫采用 S 型熱電偶,置于樣品正下方;

  • 常壓環境。 使用時需要通常壓保護氣體(惰性/還原性)

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