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高溫高壓臨界反應裝置(DM-HPHTCR-200/20)
    發布時間: 2022-09-16 16:19    

一、產品簡介
原位高溫高壓臨界反應裝置(DM-HPHTCR-200/20)是一款適用于高溫高壓臨界反應的原位測試裝置。該裝置采用自加熱方式,最高使用溫度為250℃。可通過外部增壓裝置對整個裝置進行增壓反應,最高耐受壓力為20MPa。適用于不同溫度和壓力條件下的臨界反應過程中的X射線小角散射實驗。

二、主要技術參數:

1. 該原位高溫高壓臨界反應裝置主體外殼材質均采用316L不銹鋼精加工得到,保證能夠承受20MPa大氣壓;

2. 該裝置主體腔室采用電阻絲加熱方式,對其進行整體加熱,加熱溫度范圍:RT-250℃,升溫速率控制在20℃/min以內,溫度控制精度為±1℃;

3. 該裝置所有窗口均采用藍寶石膜窗口,透射窗口尺寸為φ8mm*0.5mm,透射光路尺寸為φ3.5mm,出射窗口尺寸為φ16*0.5mm,可視窗口尺寸為φ5mm; 其中進光口設置有旋鈕功能,能夠對內部腔室的厚度進行適當調節;

4. 該裝置能夠實現加熱加壓條件下的X射線衍射(透射)數據采集,其出口衍射角2theta角保證大于等于35°;

5. 加熱主體外側設置有隔熱層,在主體裝置加熱加壓條件下仍然能夠保證外殼體溫度不高于60℃;

6. 主體腔室上方連接有氣路系統,配備一進一出兩個球閥和一個氣體壓力表;

7. 該裝置系統配備一套溫度控制系統,除手動操作外還可實現程序控制。


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