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高壓光催化原位裝置(PEC-HP)
    發布時間: 2022-09-21 13:40    

一、裝置簡介

高壓光催化原位裝置(PEC-HP)是一款對光催化反應過程中施加壓力的原位池。根據客戶需求,裝置設有進出氣口,可對腔體內部加壓,最高可達50 bar,以滿足客戶不同的壓力范圍需求。同時對主腔室設置為H型池體,電極可通過程序控制實現上下移動功能,上下移動的時間比為0.8/0.2。通光窗口以及內液腔容積也可依據客戶需求進行設計。


二、裝置特點

1.   該裝置適用于給光催化過程中加壓的測試反應;

2.   工作電極可在溶液和氣體中相互移動,移動時間比設置為0.8/0.2,均為電腦程序控制;

3.   通過氣體增壓方式,可對腔體內部進行加壓,加壓范圍為1-50個大氣壓;

4.   樣品大小尺寸可根據客戶要求具體定制,樣品厚度可調,拆卸方便快捷;

5.   主池體采用316L不銹鋼材質,內盛液腔采用聚四氟乙烯材質,容積可根據客戶要進行設計;


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